水处理设备耗材

2026-09-20 11:22:41超级管理员 5

LED面板生产的基板清洗、光刻、蚀刻、显影工序，对超纯水水质要求十分严苛。水中残留的硅、钠、微量有机物及颗粒物，极易引发面板光点异常、线路缺陷，直接影响产品良率。伴随LED面板产线向规模化、大产能方向发展，大流量、低运维、高稳定性的EDI膜堆，成为超纯水系统的核心关键设备。威立雅E-Cell MK-9、MK-7大容量EDI膜堆针对光电行业工况优化，在众多LED面板超纯水项目中得到落地应用。

LED面板行业经典超纯水工艺流程为：原水预处理→两级反渗透→EDI深度脱盐→UV-TOC降解→抛光处理→终端过滤输送至生产用水点。两级反渗透可以去除水中大部分盐类、胶体，但产水中依旧残留二氧化硅、钠离子等微量有害杂质，需要EDI模块做深度提纯。传统混床设备需要频繁酸碱再生，药剂消耗高、废液处理负担重，难以适配工厂不间断连续生产。EDI电去离子技术无需酸碱再生，能够持续产出高纯度超纯水，更契合显示制造行业的生产需求。

威立雅E-Cell MK-9大容量EDI膜堆额定产水8m³/h，流量区间4.2-10.0m³/h，最高回收率可达97%，适合大型LED面板项目；同系列MK-7流量规格偏小，适配中等规模产线。两款产品设计逻辑一致，融合离子交换树脂与离子交换膜技术，依靠直流电场实现离子迁移和树脂自再生，无需盐水注入、无需浓水循环，简化管路与自控设计，降低工程建设投入。

水质性能方面，MK-9产水电阻率≥16MΩ・cm，钠脱除率≥99.9%，二氧化硅脱除率最高99%，有效去除危害面板制程的硅、钠等杂质，为后端抛光单元提供优质进水。模块支持逆流运行，面对进水硬度偏高的工况，可延缓结垢问题，减少化学清洗频次，降低停机维护时间，对国内复杂原水水质拥有良好适配能力。

面板工厂选型EDI，设备长期可靠性至关重要。MK-9/MK-7采用防泄漏结构，提供3年按比例质保，具备相关认证，经过大量光电工业项目验证。设备运行能耗低，高回收率实现水资源节约，契合制造企业降本节水目标。实际使用中EDI进水优先采用RO产水，严格管控TOC、总氯、铁锰等指标，前端配置保安过滤器，规避颗粒物造成膜堆不可逆污染。

威立雅MK-9、MK-7大容量EDI膜堆兼顾大流量、水质稳定、运维简单、节水降耗多重优势，解决规模化LED面板产线超纯水制备痛点，是显示行业超纯水项目优选的EDI设备方案。如果您想了解更多威立雅EDI模块MK-9等水处理耗材的相关资讯，欢迎随时在本网站留言或来电咨询！感谢您认真阅读！

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